Plasma can be largely divided according to the gas that produces plasma and the type of plasma to be used.
Gas can be mainly divided into oxygen and fluorine systems, and types can be divided into radicals with chemical properties and ions with physical properties.
Plasma ions and radicals have an effect on O-RING, providing a variety of materials to maintain Etch and sealing performance.
TranVa 9671 = Minimize generation of metal ions with balanced resistance to plasma
메탈성분을 최소화한 나노 필러를 적용하여, 고순도를 요하는 반도체 산업에서 안정적인 씰링 기능을 나타내는 다크브라운 색상의 과불화탄성체 / 다만 고온의 NF3 공정에는 주의를 요함 |
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플라즈마에 대한 저항성이 우수하여 백색 재질의 FFKM 중에서 플라즈마 에칭 등, 내열성 및 내화학성에 가장 적합 |
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TechRes® IP28 | 물리적, 화학적 플라즈마에 균형 잡힌 저항성 / 고밀도 플라즈마 화학증착 공정 등에 사용 |
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TechRes® IP22 | NF3 & 산소계 고밀도 플라즈마에 우수한 저항성 / 클리닝 가스에 대한 낮은 파티클의 특성 |
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초고순도 제품 / 파티클 발생 최소화 / 넓은 범위의 화학적 호환성 / 고밀도 플라즈마 공정 등에 사용 |
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낮은 금속 이온 함유 / 표면의 낮은 부식으로 오염의 최소화 / 반도체나 FPD산업을 위해 설계 |
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